医用制剂水处理设备技术指标与维护 2页

医用制剂水处理设备技术指标与维护　　一、工程概况：　　随着电子工业的发展，提出了越来越多的高质量要求高纯水和高纯水生产的需求正迅速增长。这个例子是德国最近建立了集成电路产品用于生产医用纯水系统。与一个典型的高纯水系统差异不大，医院中央纯水设备公司强调了电子行业的辩论一些熟悉的问题。　　二、设计原始资料：　　制作16K位集成电路(DRAM)时，对水质的要求：TOC0.5mg/L，金属离子为1mg/L，微粒(≥0.2mm)为100个/ml。而制作16M位DRAM时，对水质的要求：TOC<5mg/L，金属离子<0.2mg/L，微粒(≥0.1mm)为0.6个/ml。　　三、工艺流程及主要设备：　　1.预处理：　　预处理包括活性炭过滤器、软化器和阻垢剂投加装置。对RO组件中的聚酰胺复合膜，由于它的耐氯性能差，但适用pH值范围广。活性炭过滤能有效地去除氯。而活性炭过滤后，往往会增加水中细菌和微粒子的含量。软化器可以减少水中粒子含量，由于树脂表面带有少量电荷，会提高软化器的活性，因此软化器预处理可以减少RO组件的粒子污染。　　2.RO系统：　　RO膜一般能去除原水中95%～99%的TDS，而对二氧化硅(SiO2)的去除效果则不佳，因此RO被认为是预脱矿质过程，为了提高RO的效率，采用了两段RO系统。这种两段脱盐系统采用了低压复合膜，既能保证水通量，又不降低脱盐率，它所需的操作压力为1.38～1.72MPa，所以两段RO能在低于0.27MPa压差下工作，并大幅度提高了离子的分离性能。若单级RO膜的截留率为95%，两段RO盐的透过率为(0.05)2或0.0025。因此，通过两段RO计算的截留率应为99.75%，复合膜也能提高SiO2的截留率。　　3.后处理：　　RO装置产水放入贮槽中，以便进行后续的离子交换(IX)和筒式过滤器处理。往贮槽加入臭氧，使有机物和氧化剂接触转化成羧酸类物质以减少粒子生成。贮水槽出水经254nm紫外线灭菌器，旨在消除臭氧残留物，保护后续的IX装置和筒式过滤器免受臭氧降解。该系统也由两个IX装置组成，每个混床后均设亚微米筒式过滤器和紫外线灭菌器。用0.45mm筒式过滤器捕集主混床漏出的树脂颗粒，主混床下游选用18.5nm紫外光，它除杀灭细菌外，还可使有机物少量氧化。　　四、对预处理和后处理设备的维护：\n　　活性炭过滤器、软化器均采用轻便可更换单元组件，以便失效后随时更换。为此必须设置易于操作的更换连接件。对于离子交换混床中的主床和精床放在一起便于再生，为了防止高纯水的受污染，应采用高级管材，而且管道输送距离应尽可能短。　　(1)在RO膜正式加负载前，应先开始RO预处理系统操作，预处理的水用于彻底地冲洗RO压力容器和管道系统。　　(2)RO膜加负载，操作R0系统，同时排放最初的产水。此过程持续到下述条件中的—个或几个满足为止。即RO系统在稳定的脱盐性能下持续运转48h;RO产水TOC浓度不高于进水TOC的10%;RO产水的TOC低于100mg/L。　　(3)装满贮槽并清洗后排放，如此循环两次。　　(4)用RO产水灌装贮槽至一半容量时，启用臭氧发生器，贮槽中水被臭氧氧化至浓度200～500mg/L。　　(5)将贮槽的臭氧化水循环流遍精处理的分配系统，持续24h。　　(6)排空系统，用新鲜的RO产水重新充装罐，重新建立臭氧浓度，然后在系统内循环1h。　　(7)启动贮槽下游的紫外线灭菌器，再循环至少2h，然后调节臭氧发生器实现贮槽中稳定的臭氧余量，证实在紫外线灭菌器的下游各处臭氧浓度为零。　　(8)由分配泵的排放口至树脂捕集过滤器的下游建立与臭氧相容的管路。当通过IX精处理单元的循环连续运行时，使系统连续臭氧化。使系统中臭氧浓度为40～80mg/L，TOC<10mg/L，及下游出口处0.2mm的微粒<30个/ml。　　仅在每个起点开始每个处理单元，然后进行单元测试，证明单位在手术后预期的性能，然后开始下一个单元。启动过程必须超过30天。这样，不管什么问题可以很容易识别和处理。